Waterstofchloride (HCl)

Technische parameters:

Waterstofchloride heeft de chemische formule HCl.Een waterstofchloridemolecuul is samengesteld uit een chlooratoom en een waterstofatoom.Het is een kleurloos gas met een penetrante geur.Bijtend, niet-brandbaar gas, reageert niet met water, maar is gemakkelijk oplosbaar in water.Het is vaak in de lucht aanwezig in de vorm van zoutzuurdampen.Waterstofchloride is gemakkelijk oplosbaar in ethanol en ether, en ook oplosbaar in vele andere organische stoffen;zeer gemakkelijk oplosbaar in water, bij 0°C kan 1 volume water ongeveer 500 volumes waterstofchloride oplossen.De waterige oplossing is algemeen bekend als zoutzuur en de wetenschappelijke naam is zoutzuur.Geconcentreerd zoutzuur is vluchtig.Waterstofchloride is kleurloos, met een smeltpunt van -114,2°C en een kookpunt van -85°C.Het brandt niet in de lucht en is thermisch stabiel.Het ontleedt pas bij ongeveer 1500°C.Het heeft een verstikkende geur, is sterk irriterend voor de bovenste luchtwegen en is bijtend voor ogen, huid en slijmvliezen.De dichtheid is groter dan die van lucht.De chemische eigenschappen van droog waterstofchloride zijn zeer inactief.Alkalimetalen en aardalkalimetalen kunnen branden in waterstofchloride en wanneer natrium brandt, geeft het een felgele vlam af.Waterstofchloride wordt in de petrochemische industrie gebruikt om de effectiviteit en regeneratie van katalysatoren te bevorderen en de viscositeit van aardolie te verhogen;het kan worden gebruikt om chloorsulfonzuur, synthetisch rubber, enz. te produceren;het kan ook worden gebruikt om kleurstoffen, geurstoffen, medicijnsynthese, verschillende chloriden en corrosieremmers te maken, en schoon te maken, te beitsen, metaal te galvaniseren, te looien, te verfijnen of hardmetaal te vervaardigen.Hoogzuiver waterstofchloridegas wordt veel gebruikt bij epitaxiale groei van silicium, polijsten in de dampfase, gettering, etsen en reinigingsprocessen in de elektronica-industrie.

Sollicitatie:

①Materiaal:

Het meeste waterstofchloride wordt gebruikt bij de productie van zoutzuur.Het is ook een belangrijk reagens bij andere industriële chemische omzettingen.

②Halfgeleider:

In de halfgeleiderindustrie wordt het gebruikt om zowel halfgeleiderkristallen te etsen als om silicium te zuiveren via trichloorsilaan (SiHCl3).

③Laboratorium:

In het laboratorium zijn watervrije vormen van het gas bijzonder nuttig voor het genereren van op chloride gebaseerde Lewis-zuren, die absoluut droog moeten zijn om hun Lewis-plaatsen te laten functioneren.

Normaal pakket:

Voordelen:

①Hoge zuiverheid, nieuwste faciliteit;

②ISO-certificaatfabrikant;

③Snelle levering;

④On-line analysesysteem voor kwaliteitscontrole in elke stap;

⑤Hoge vereisten en nauwgezet proces voor het hanteren van de cilinder vóór het vullen;