Koolstoftetrafluoride (CF4)

Korte beschrijving:

Koolstoftetrafluoride, ook bekend als tetrafluormethaan, is een kleurloos gas bij normale temperatuur en druk, onoplosbaar in water. CF4-gas is momenteel het meest gebruikte plasma-etsgas in de micro-elektronica-industrie. Het wordt ook gebruikt als lasergas, cryogeen koelmiddel, oplosmiddel, smeermiddel, isolatiemateriaal en koelvloeistof voor infrarooddetectorbuizen.


Productdetails

Productlabels

Technische parameters

Specificatie 99,999%
Zuurstof + Argon ≤1 ppm
Stikstof ≤4 ppm
Vocht (H2O) ≤3 ppm
HF ≤0,1 ppm
CO ≤0,1 ppm
CO2 ≤1 ppm
SF6 ≤1 ppm
Halocarbynen ≤1 ppm
Totale onzuiverheden ≤10 ppm

Koolstoftetrafluoride is een gehalogeneerde koolwaterstof met de chemische formule CF4. Het kan worden beschouwd als een gehalogeneerde koolwaterstof, gehalogeneerd methaan, perfluorkoolstof of als een anorganische verbinding. Koolstoftetrafluoride is een kleurloos en geurloos gas, onoplosbaar in water, oplosbaar in benzeen en chloroform. Stabiel onder normale temperatuur en druk; vermijd sterke oxidatiemiddelen en ontvlambare of brandbare materialen. Het is een niet-brandbaar gas; de interne druk in de container zal toenemen bij blootstelling aan hoge temperaturen, en er bestaat gevaar voor scheuren en explosie. Het is chemisch stabiel en niet-ontvlambaar. Alleen vloeibare ammoniak-natriummetaalreagens kan bij kamertemperatuur werken. Koolstoftetrafluoride is een gas dat het broeikaseffect veroorzaakt. Het is zeer stabiel, kan lange tijd in de atmosfeer blijven en is een zeer krachtig broeikasgas. Koolstoftetrafluoride wordt gebruikt in het plasma-etsproces van diverse geïntegreerde schakelingen. Het wordt ook gebruikt als lasergas en wordt gebruikt in lagetemperatuurkoelmiddelen, oplosmiddelen, smeermiddelen, isolatiematerialen en koelvloeistoffen voor infrarooddetectoren. Het is het meest gebruikte plasma-etsgas in de micro-elektronica-industrie. Het is een mengsel van tetrafluormethaangas met een hoge zuiverheidsgraad en tetrafluormethaangas met een hoge zuiverheidsgraad en zuurstof met een hoge zuiverheidsgraad. Het kan op grote schaal worden gebruikt in silicium, siliciumdioxide, siliciumnitride en fosfosilicaatglas. Het etsen van dunnefilmmaterialen zoals wolfraam en wolfraam wordt ook veel gebruikt bij de oppervlaktereiniging van elektronische apparaten, de productie van zonnecellen, lasertechnologie, lagetemperatuurkoeling, lekkage-inspectie en reinigingsmiddelen bij de productie van printplaten. Het wordt gebruikt als lagetemperatuurkoelmiddel en plasma-droogetstechnologie voor geïntegreerde schakelingen. Voorzorgsmaatregelen voor opslag: Bewaren in een koele, geventileerde opslagruimte voor niet-brandbare gassen. Verwijderd houden van vuur en warmtebronnen. De opslagtemperatuur mag niet hoger zijn dan 30 °C. Het moet gescheiden worden opgeslagen van licht ontvlambare stoffen en oxidanten, en gemengde opslag moet worden vermeden. De opslagruimte moet zijn uitgerust met apparatuur voor noodbehandeling bij lekkage.

Sollicitatie:

① Koelmiddel:

Tetrafluormethaan wordt soms gebruikt als koelmiddel bij lage temperaturen.

  fdrgr Greg

② Etsen:

Het wordt gebruikt in de microfabricage van elektronica, alleen of in combinatie met zuurstof als plasma-etsmiddel voor silicium, siliciumdioxide en siliciumnitride.

dsgre rgg

Normaal pakket:

Product KoolstoftetrafluorideCF4
Pakketgrootte 40Ltr cilinder 50Ltr cilinder  
Vulgewicht netto/cilinder 30 kg 38 kg  
Aantal geladen in 20'-container 250 cilinders 250 cilinders
Totaal nettogewicht 7,5 ton 9,5 ton
Cilinder leeggewicht 50 kg 55 kg
Ventiel CGA 580

Voordeel:

①Hoge zuiverheid, nieuwste faciliteit;

2. ISO-gecertificeerde fabrikant;

③Snelle levering;

④Online analysesysteem voor kwaliteitscontrole in elke stap;

⑤Hoge eisen en nauwkeurig proces voor het hanteren van de cilinder vóór het vullen;


  • Vorig:
  • Volgende:

  • Schrijf hier uw bericht en stuur het naar ons