Speciale gassen
-
Zwaveltetrafluoride (SF4)
EINECS-nr.: 232-013-4
CAS-nummer: 7783-60-0 -
Lachgas (N2O)
Lachgas, ook wel bekend als distikstofoxide, is een gevaarlijke chemische stof met de chemische formule N₂O. Het is een kleurloos, zoetgeurend gas. N₂O is een oxidator die onder bepaalde omstandigheden verbranding kan ondersteunen, maar is stabiel bij kamertemperatuur en heeft een licht verdovend effect. Het kan mensen aan het lachen maken. -
Koolstoftetrafluoride (CF4)
Koolstoftetrafluoride, ook bekend als tetrafluormethaan, is een kleurloos gas bij normale temperatuur en druk, onoplosbaar in water. CF4-gas is momenteel het meest gebruikte plasma-etsgas in de micro-elektronica-industrie. Het wordt ook gebruikt als lasergas, cryogeen koelmiddel, oplosmiddel, smeermiddel, isolatiemateriaal en koelvloeistof voor infrarooddetectorbuizen. -
Sulfurylfluoride (F2O2S)
Sulfurylfluoride (SO2F2), een giftig gas, wordt voornamelijk gebruikt als insecticide. Omdat sulfurylfluoride de eigenschappen heeft van sterke diffusie en permeabiliteit, een breed werkingsspectrum, lage dosering, lage residuen, snelle insecticide werking, korte gasverspreidingstijd, gemakkelijk te gebruiken bij lage temperaturen, geen effect op de kiemkracht en lage toxiciteit, wordt het steeds vaker gebruikt in magazijnen, vrachtschepen, gebouwen, stuwdammen, termietenbestrijding, enz. -
Silaan (SiH4)
Silaan (SiH4) is een kleurloos, giftig en zeer reactief gecomprimeerd gas bij normale temperatuur en druk. Silaan wordt veel gebruikt bij de epitaxiale groei van silicium, als grondstof voor polysilicium, siliciumoxide, siliciumnitride, enz., in zonnecellen, optische vezels, de productie van gekleurd glas en chemische dampafzetting. -
Octafluorocyclobutaan (C4F8)
Octafluorocyclobutaan (C4F8), gaszuiverheid: 99,999%, wordt vaak gebruikt als drijfgas en mediumgas in levensmiddelenaerosols. Het wordt ook vaak gebruikt in het PECVD-proces (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) voor halfgeleiders. C4F8 dient als vervanging voor CF4 of C2F6 en wordt gebruikt als reinigingsgas en etgas bij halfgeleiderprocessen. -
Stikstofmonoxide (NO)
Stikstofmonoxide (NO) is een stikstofverbinding met de chemische formule NO. Het is een kleurloos, geurloos, giftig gas dat onoplosbaar is in water. Stikstofmonoxide is chemisch zeer reactief en reageert met zuurstof tot het corrosieve gas stikstofdioxide (NO₂). -
Waterstofchloride (HCl)
Waterstofchloride (HCl) is een kleurloos gas met een scherpe geur. De waterige oplossing ervan wordt zoutzuur genoemd. Waterstofchloride wordt voornamelijk gebruikt voor de productie van kleurstoffen, specerijen, medicijnen, diverse chloriden en corrosieremmers. -
Hexafluoropropyleen (C3F6)
Hexafluorpropyleen, chemische formule: C3F6, is een kleurloos gas bij normale temperatuur en druk. Het wordt hoofdzakelijk gebruikt voor de bereiding van diverse fluorhoudende fijnchemische producten, farmaceutische tussenproducten, brandblusmiddelen, enz., en kan ook worden gebruikt voor de bereiding van fluorhoudende polymere materialen. -
Ammoniak (NH3)
Vloeibare ammoniak / watervrije ammoniak is een belangrijke chemische grondstof met een breed scala aan toepassingen. Vloeibare ammoniak kan worden gebruikt als koelmiddel. Het wordt voornamelijk gebruikt voor de productie van salpeterzuur, ureum en andere kunstmeststoffen, en kan ook dienen als grondstof voor geneesmiddelen en bestrijdingsmiddelen. In de defensie-industrie wordt het gebruikt voor de productie van drijfgassen voor raketten en projectielen.
